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我國首次在常見的半導(dǎo)體材料中發(fā)現(xiàn)拓?fù)浣^緣體相

[2014/2/17]

  日前,中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所常凱研究組,提出利用表面極化電荷在傳統(tǒng)常見半導(dǎo)體材料GaAs/Ge中實現(xiàn)拓?fù)浣^緣體相,通過第一性原理計算和多帶k.p理論成功地證明了GaAs/Ge極化電荷誘導(dǎo)的拓?fù)浣^緣體相,這為拓?fù)浣^緣體的器件應(yīng)用又向前推進(jìn)了一步。

  中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所常凱研究組繼前期首次打破窄能隙和重元素的限制,在常見的半導(dǎo)體材料GaN/InN/GaN中發(fā)現(xiàn)拓?fù)浣^緣體相,首次理論上提出利用表面極化電荷在常見半導(dǎo)體材料GaAs/Ge系統(tǒng)中實現(xiàn)拓?fù)浣^緣體相。GaAs/Ge系統(tǒng)與GaN/InN/GaN系統(tǒng)相比不同的地方是,GaAs材料和Ge材料晶格常數(shù)匹配,更易于材料的生長。另外,GaAs/Ge是傳統(tǒng)的半導(dǎo)體材料,制造工藝成熟,更利于拓?fù)浣^緣體器件的集成。該工作對在常見半導(dǎo)體中探索新的拓?fù)湎,及其開展介觀輸運的研究具有重要的意義。